![晶体硅太阳电池物理](https://wfqqreader-1252317822.image.myqcloud.com/cover/670/35808670/b_35808670.jpg)
5.2 半导体的电阻率
当半导体施加外电场时,半导体中的电荷将受电场力的作用而移动。
按照电学原理,电荷在电场中的位置a处具有一定的势能Ea,每个电荷受电场力qF作用。电荷将在电场力的作用下移动,移动时所作的功Aa是电势能改变的量度,即
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式中:Ea为相对于电荷q在无限远处电势为0时的电势能;Aa表示电荷q从电场中a点移到无穷远处电场力所作的功。
按照式(4-48),电场作用力qF等于势能梯度的负值,即
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式中,负号表示电场方向与电势能Ea梯度相反。
按照式(4-43),电场中半导体材料的某一点电子的静电势ψ与电子势能E的关系可表示为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_95_2.jpg?sign=1738850868-PZOiWUOy4yplAk3a7QffwD8HSA8vdaaf-0-c8ed479a8328b7d7749bd0d689bbb219)
由于在杂质均匀分布的半导体中,E0、EC、EV、EF和Ei等能级的能量均为电子势能,由能带图可见,均匀半导体材料的这些电子能级相互平行,梯度相等,即
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为方便计,可用处于禁带中心的本征费米能级Ei表征:
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按照式(4-46),ψ梯度的负值等于电场强度F,即
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_95_5.jpg?sign=1738850868-OZgaAsw62AoKW7iqeRA7sx5Jqy8y5E2u-0-e7599d358e88e02735ef29951661c774)
式中,负号表示电场方向与ψ梯度相反。
如图5-4(a)所示,电子带负电荷,每个电子受电场力-qF作用,电场对电子的作用力等于势能梯度的负值:
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即
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![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_95_8.jpg?sign=1738850868-EqjwPUMDHryeb4qFvngr8u8i2QuWSOnl-0-0c1c83208f8b0f82ee453aa035a6a399)
图5-4 n型半导体导电过程
以n型半导体为例,在均匀的n型半导体中,按照电学原理的静电势与电势能的关系,外加电压V(即半导体两端之间的电势差Δψ)将使电子势能随着距离x的增加而线性下降。
图5-4(b)所示为n型半导体导电过程的热平衡情况。电场强度为常数,方向为负x方向,其值为外加电压V除以半导体样品的长度L,即
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在图5-4(a)中,导带电子在电场作用下首先向外加电压V为正的方向运动,在前进方向上碰撞到晶格时,将部分或全部动能转移给晶格,恢复热平衡状态,然后在电场作用下继续前进,不断重复上述过程,即可形成电子导电。空穴以相反的方向,以同样的方式运动,形成空穴导电。于是,载流子在外电场作用下输运产生漂移电流。
电场促使载流子定向运动,而散射促使载流子运动紊乱,影响电导。
如图5-5所示,考虑截面积为A、长度为L的样品,在样品上外加电场时,样品中电子电流密度Jn等于单位体积内总数为n的所有电子的电荷(-q)与电子速度乘积的总和:
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_96_2.jpg?sign=1738850868-S13YmLBjHXynJFetWklOUGg5lo7Klnt6-0-b1f868114b192c86ab1e298ed2f63841)
式中,In为电子电流,n为电子浓度。
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_96_3.jpg?sign=1738850868-upvu8tZiHzAlY3Jx4mAHlJwTmlJ5XoiA-0-f499e87918b53471b8522ed33854e2ca)
图5-5 均匀掺杂长条形半导体样品中的漂移电流
由式(5-7)可知,υn=-μnF,所以Jn为
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空穴的情况与此类似。空穴电荷取正号,得Jp为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_96_5.jpg?sign=1738850868-JaL4vRYRodMzycQSb8yJe3427rbk5AfW-0-ebd2d86467c96f9b188102f854d7e168)
在外加电场的作用下,流过半导体样品的总电流密度为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_96_6.jpg?sign=1738850868-qeiNObywfsbvV4vEyYidpLExr5dXI4CE-0-f19a802219d954eaa0938175e54a1a6a)
式中,σ为电导率:
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半导体的电阻率ρs是σ的倒数,即
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_96_8.jpg?sign=1738850868-ihOEaIjex8bqMg8KzRULfYWxkJbmoSjl-0-d28e9ec132ae2bb6b8dc5ff0c37cd466)
在掺杂半导体中,电子和空穴这两种载流子的浓度相差很大,因此在n型半导体中,近似地认为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_97_1.jpg?sign=1738850868-cGYuvgHLy7M80oyWYJRJn7IWFgI0IaYL-0-21c0af1d8c54fd93226c5c9ef4b73412)
而在p型半导体中,近似地认为
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_97_2.jpg?sign=1738850868-0btTAWk9TybXEHeMmF5fEjnMCQjyf7ql-0-9a883ade4a5a3e0d7042214809dc166e)
轻掺杂时(杂质浓度为1017~1018cm-3),可以认为室温条件下杂质全部电离,式(5-33)和式(5-34)中载流子浓度近似等于杂质浓度,即n≈ND,p≈NA。
采用图5-3给出的迁移率数据和载流子浓度可计算出电阻率。迁移率取决于离化杂质总浓度的大小,即取决于受主浓度和施主浓度之和,而电子浓度和空穴浓度取决于受主浓度和施主浓度之差。
T=300K时非补偿或轻补偿的硅材料的电阻率与杂质浓度的关系曲线如图5-6所示。对于轻掺杂,可以认为在室温下杂质是全部电离的。当掺杂浓度增高时,由于杂质在室温下不能全部电离,迁移率随杂质浓度的增加而显著下降[3]。
![](https://epubservercos.yuewen.com/F2D238/19118078808017706/epubprivate/OEBPS/Images/40104_97_3.jpg?sign=1738850868-cUIZcmIGQCFHx2rQF7MMy6NlIXrGWjV6-0-9371f6e7b20684b28d0dbde376db86c9)
图5-6 T=300K时非补偿或轻补偿的硅材料的电阻率与杂质浓度的关系曲线